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ASML是先的半导体设备厂商,随着工艺技术不断缩,三星在16日宣布5nm极紫外光(EUV)制程开发成功,并传今年将量产6nm,台积电傍晚也宣布推出6nm(N6)制程技术,并预计2020年一季度进入试产。DRAM也即将进入1znm,三星已成功研发出1znm DRAM,并预计于2019 年下半年开始大量生产,DRAM进入1znm节点将需要更精密的EUV设备延续摩尔定律,这离不开对ASML EUV设备的需求。
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同时,南亚科再度下修今年资本支出,由原先的 106 亿元下调至 70 亿元,较去年大砍约 65.7%,而位元产出方面,今年初原先预期将年增 10-15%,也下调至幅成长或持平,但将投入 5-10% 的产能作为制程与产品研发使用。
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先进封装近来被视为延伸摩尔定律的利器,透过芯片堆栈,大幅芯片功能。台积电这几年推出的CoWoS及整合扇出型封装(InFO),就是因应客户希望一次到位,提供从芯片制造到后段封装的整合服务。
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